■特長 ・酸化性、還元性の無機および有機酸に対してすぐれた耐蝕性を示します。 ・塩素イオンによる耐応力腐蝕割れ性にすぐれています。 ・アンモニアに対してほぼ完全な耐蝕性を示します。 ・すぐれた耐熱性、耐クリープ性。600℃付近でも、高い強度を保持します。 ■用途 ・FPD製造装置/半導体製造装置/プリント基板エッチング装置/金属表面処理設備/化学プラント
