■特長 ・純ニッケル製。Ni99.0%以上。 ・水酸化ナトリウムなどのアルカリ溶液、あるいは高純度のハロゲンガスや非酸化性酸などに対してすぐれた耐蝕性を示します。 ■用途 ・FPD製造装置/半導体製造装置/プリント基板エッチング装置/金属表面処理設備/化学プラント